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      任何間隙，盡管很小，都允許流體分子在兩個(gè)方向上有通道。因此，密封只是一個(gè)程度問(wèn)題，它永遠(yuǎn)不是絕對(duì)的。術(shù)語(yǔ)“泄漏”和“密封”經(jīng)常在口語(yǔ)上不嚴(yán)謹(jǐn)?shù)厥褂弥�，但在�?yán)肅的工程中它們必須根據(jù)相應(yīng)背景加以定義。泄漏通常被認(rèn)為流體向外流過(guò)密封到被密封的機(jī)器的周圍區(qū)域。但是，在某些情況下，泄漏可能是環(huán)境流體向內(nèi)通過(guò)密封與機(jī)器內(nèi)的流體混合并通過(guò)運(yùn)動(dòng)部件向內(nèi)泵送。根據(jù)應(yīng)用場(chǎng)合，由這種內(nèi)漏引起的污染可能是可接受的，也可能是不可接受的。
    現(xiàn)在區(qū)別以下泄漏模式：

    擴(kuò)散典型的氣體或蒸氣分子的尺寸小于一納米（10-9m），它可通過(guò)最小的廣程間隙甚至機(jī)器殼體或密封部件上的孔隙擴(kuò)散。甚至一個(gè)放置在大氣中的真空玻璃球也會(huì)被穿透玻璃球壁的氦氣充滿。因此，當(dāng)危險(xiǎn)氣體或蒸氣的泄漏量要控制到一個(gè)很高的水平時(shí)，需要使用非常昂貴的密封系統(tǒng)。但是，當(dāng)被密封的流體不產(chǎn)生環(huán)境有害物如壓縮空氣或蒸汽時(shí)，相對(duì)大的泄漏率是可以忍受的，并且可以使用低成本的密封系統(tǒng)。大多數(shù)工業(yè)應(yīng)用界于這些極端情況之間。
    擴(kuò)散過(guò)程受濃度梯度驅(qū)動(dòng)，因?yàn)殡S機(jī)的分子運(yùn)動(dòng)傾向于消除濃度差。
    對(duì)流 密封的旋轉(zhuǎn)部件引起的空氣流動(dòng)可使小的液滴通過(guò)密封間隙向外移動(dòng)，特別是在非接觸型密封中。同樣，旋轉(zhuǎn)部件可引起內(nèi)向空氣流動(dòng)也可使小液滴通過(guò)密封間隙向內(nèi)移動(dòng)，從而將灰塵顆粒或液滴從環(huán)境輸送到被密封的空間。對(duì)流泄漏量對(duì)密封間隙內(nèi)和其周圍的具體幾何形狀很敏感。
    壓力流 這是實(shí)際中最受關(guān)注的泄漏模式。壓差引起的液相泄漏頻繁地以滴出或流出的液體出現(xiàn)。對(duì)于無(wú)害的流體，當(dāng)不存在液體泄漏時(shí)，密封系統(tǒng)在技術(shù)上定義為是不漏的。該定義中，密封的大氣側(cè)的一個(gè)薄的彎液面通常不被認(rèn)為是

泄漏，盡管存在向大氣的氣化（“蒸氣逸出”）。當(dāng)其他條件不變時(shí)，因壓力流引起的泄漏率隨壓力梯度增加而增加，而隨流體的黏度增加而減小。
    帶壓的氣體或蒸氣的泄漏也與壓差有關(guān)。當(dāng)揮發(fā)性液體通過(guò)密封間隙而改變相態(tài)時(shí)，也產(chǎn)生氣體或蒸氣相泄漏。相變可能由于壓力降低或摩擦加熱或兩者兼之造成。相變時(shí)體積的增大具有有用的節(jié)流作用，因而減小了質(zhì)量流率。
    在毒性或污染控制受到關(guān)注的低泄漏率下，氣體或蒸氣泄漏可能不被注意到，除非使用敏感儀器，如采用對(duì)百萬(wàn)分之幾濃度敏感的烴探測(cè)儀來(lái)探測(cè)。目前，這類探測(cè)儀使用火焰電離傳感器或?qū)�熱傳感器�?br />     最近的一些泄漏控制規(guī)定（例如在美國(guó)）規(guī)定了密封附近的濃度范圍，如“1 x l0-4'’，“l x IO_3’等。使用上述類型的探測(cè)儀進(jìn)行測(cè)量。這類濃度測(cè)量值不是絕對(duì)的，因?yàn)椋孩偬綔y(cè)儀不收集從密封逸出的全部泄漏物；②儀器的讀數(shù)濃度取決于被吸A儀器的空氣+蒸氣的取樣流率。當(dāng)在密封周圍安裝一密閉罩時(shí)，截獲全部泄漏物并根據(jù)濃度變化率來(lái)獲得絕對(duì)測(cè)量值（g/s）。

密封元件和功能
    本章中，我們概括地討論密封設(shè)計(jì)和功能以便說(shuō)明如何將這些概念廣泛應(yīng)用于不同類型的密封。在以后的幾章中，我們將詳細(xì)說(shuō)明密封的具體類型。
  簡(jiǎn)單概念密封的主要元件示于圖1一2。有一個(gè)可運(yùn)動(dòng)的密封體SB和一個(gè)相對(duì)密封體運(yùn)動(dòng)的表面MS。在這對(duì)密封面之間形成主密封面P。P上的密封面之間的間隙為“密封間隙”或“膜厚”。該間隙按一般工程標(biāo)準(zhǔn)很小，因此適用的測(cè)量單位是m(即，微米：O.OOlmm或l0-6m)。

    副密封界面S限制密封體和腔體H之間的泄漏量。閉合力F使主副密封界面上的間隙最小。定位裝置R可防止因相對(duì)運(yùn)動(dòng)的摩擦引起的密封體滑動(dòng)。在更復(fù)雜的密封系統(tǒng)中，S實(shí)際由副密封體構(gòu)成。
    密封界面的狀態(tài)取決于密封類型并規(guī)定了主密封界面的幾何形狀(圖1-2)：